반도체용가스 < 제품소개 < (주)그린산업가스

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반도체용가스

반도체용 가스는 반도체의 특성을 만들기 위한 Doant, Etchant, Reactant, Reactant, Purge 가스 등으로 구분되며 그 종류가 다양하고 대부분 독성이며, 높은 순도를 요하며, LSL, LED, LCD 등과 같은 반도체 장치의 제조에 사용되는 가스를 말합니다.

이러한 반도체용 특수가스는 높은 가연성과 독성을 지니고 있어 극히 위험하기 때문에 생산, 검사, 운송시 고도의 관리가 요구된다. (주)그린산업가스의 표준가스는 철저한 품질관리와 정밀분석법으로 고객의 요구에 부응하고 있습니다.

반도체용가스의 종류
종류 및 특성
분류
생산공정
설비·시공·부품판매

용도

반도체 제조산업
반도체 제조 연구용

반도체용 특수가스의 종류

Silicon Group

Silicon Group
분자식	한글명	영문명
SiH₄	모노실란	Silane
Si₂H6	디실란	Disilane
SiF₄	4불화규소	Silicon Tetrafluorosilane
SiCl₄	4염화규소	Silicon Trichlorosilane
SiHCl₃	3염화실란	Trichlorosilane
SiH₂Cl₂	디클로로실란	Diclorosilane

Aresenic Group

Aresenic Group
분자식	한글명	영문명
AsH₃	알루신	Arsine

Phosphorus Group

Phosphorus Group
분자식	한글명	영문명
PH₃	포스핀(인화수소)	Phosphine

Boron Group

Boron Group
분자식	한글명	영문명
B2₂H6	디보란	Diborane
BF₃	3불화붕소	Boron trifluoride
BCl₃	3염화붕소	Boron trichoride
BBr₃	붕소	Trichlorosilane

Hydride Group

Hydride Group
분자식	한글명	영문명
GeH₄	모노게르만	Monogermane
H₂Se	세렌화수소	Hydrogen Selenide

Halogen, Halogenide Group

Halogen, Halogenide Group
분자식	한글명	영문명
F₂	불소	Fluorine
Cl₂	염소	Chlorine
NF₃	3불화질소	Nitrogen Trifluoride
SiCl₄	6불화황	Sulfur Hexafluoride
SiHCl₃	6불화텅스텐	Tungsten Hexafluoride
SiH₂Cl₂	염화수소	Hydrogen Chloride
HF	불화수소	Hydrogen Fluoride
HBr	브롬화수소	Hydrogen Bromide
Hi	요화수소	Hydrogen Iodide
ClF₃	3불화염소	Chlorine Trifluoride

Halogeno - Hydrocabon Group

Halogeno - Hydrocabon Group
분자식	한글명	영문명
CHF₃	3불화메탄	Trifluoromethane
CF₄	4불화메탄	Tetragluoromethane
C₂F6	6불화에탄	Hexafluoroethane
C₃F8	8불화프로판	Perfluoropropane
C₄F8	8불화시키로	Octafluorrcyclobutane
CHCl₃	클로폼

Nitrogen Oxide Group

Nitrogen Oxide Group
분자식	한글명	영문명
N₂O	일산화질소	Nitrous Oxide

E.T.C. Group

E.T.C. Group
분자식	한글명	영문명
NH₃	암모니아	Ammonia
CO₂	이산화탄소	Corbon Dioxide
H₂S	황화수소	Hydrogen Sulfide
SiCl₄	4염화규소	Silicon Trichlorosilane
SiHCl₃	3염화실란	Trichlorosilane

Carrier Gases Group

Carrier Gases Group
분자식	한글명	영문명
H₂	수소	Hydrogen
N₂	질소	Nitrogen
O₂	산소	Oxygen
He	헬륨	Helium
Ar	알곤	Argon

E.T.C.

E.T.C.
분자식	한글명	영문명
(CH₃O)₃PO	트리메틸파스메이트
PF₃	삼불화인
CH₃F		Methyl Fluoride
CHClF₂	염화2플루오르화메탄	Monochlorodifluoro methane
(CH₃O)₃B	트리메틸 보레이트	Trimethyl borate
POCl₃	옥시염화인	Phosphorus oxychloride
PF5	오불화인	Phosphorus pentafluoride
CHF₃	3플루오르화메탄	Methane trifluoride
(CH₃O)₃PO	트리메틸파스페이트
(C₂H5O)₄Si	테트라에톡시실란	Tetraethhoxysiline
(C₂H5)₂Te	디에틸텔루라이드
C₄F8	옥타플루오르싸이클로부탄

Balance

Balance
영문명	분자식
Arsine in Semiconductor Purity Background Gas	AsH₃ / Ar, He, H₂, N₂ Balance
Diborane in Semiconductor Purity Background Gas	B₂H6 / Ar, He, H₂, N₂ Balance
Phosphine in Semiconductor Purity Background Gas	PH₃/ Ar, He, H₂, N₂ Balance
Silicon Tetrafluoride / Oxygen	SCl₄/O₂ Balance
Halocarbon14/ Oxygen Mixtures	SCF₄/O₂ Balance

가스명	화학식	물중량	냄새	폭발범위	독성(ppm)		부식성
실란	SiH₄	32.118	불쾌한 냄새	자연발화-1.35∼	O	5	×
알곤	Ar	39.944	무취	비가연성	×		×
아르신	AsH₃	77.95	마늘냄새	가연성:5.1-78%
삼플루오르화붕소	BF₃	67.82	자극적 냄새	비연소성	O	0.3	O
삼염화붕소	BCl₃	111.17	자극적 냄새	비사연성-
디보란	B₂H6	138.012	무취	비연소성	×		×
사플루오르화탄소	CF₄	88.01	무취
염화2프루오르화메탄	CHClF₂	86.5	무취	비연소성	O	1000
3플루오르화 메탄	CHF₃	92.45	불쾌한 냄새	지연성	O	0.1	O
디플루오메탄	CH₂F₂	52	무취	자연발화-1.32∼29.3%
메탄	CH₄	16.043	무취	가연성:5.3-14%
3플루오르화 염화믈	ClF₃	92.5	자극적 냄새			0.14
염소	Cl₂	70.91	자극적 냄새			1
사불화규소	SiF₄	104.08	자극적 냄새	비연소성-	O	2.5 (mgF/㎥)	O
삼불화질소	NF₃	71	무취	지연성	O	10	×
육불화황	SF6	146.05	무취	비연소성	×	1000	×
육불화텅스텐	WF6	279.84	자극적냄새	비연소성	O	2.5(mgF/㎥)	O
3플루오르화 메탄	CHF₃	92.45	불쾌한냄새	지연성	O	0.1	O
암모니아	NH₃	17.03	자극적 냄새	지연성 -15.5-27	O	25	O
플루오르화염화물	ClF₃	92.5	자극적 냄새			0.14
일산화탄소	CO	28.01	무취	가연성:12.5-74%		50
이산화탄소	CO₂	44.01	무취			5000
과플루오르화에탄	C₂F6	138.012	무취
디메틸아연	(CH3)₂Zn	95.44	무취
과플루오르화프로판	C3F8	188.02	무취
트리메틸 알루미늄	(CH3)3Al	72.9				1
트리메틸 보레이트	B(OCH3)3	103.8	이상한 냄새
트리메틸파스페이트	PO(OCH3)3	140.1	상쾌한 향기
옥타플루오르 싸이클로부탄	C₄F8	200.03	불쾌한 악취
디에틸텔루 라이드	(C₂H5)2Te	185.72	불쾌한 냄새
테트라에톡시실란	Si(OC2H5)₄	208	상쾌한 향기	가연성:4.7-49%		100	×
불소	F₂	37.9968	무취			1
게르만	G₂H₄	76.64	자극적 냄새	가연성:2.28-100%	O	0.2
브롬화수소	HBr	80.92	자극적 냄새	비가연성-		3
염화수소	HCl	36.46	자극적 냄새	비연소성	O	5	O
수소	H₂	2.016	무취	가연성:4.1-74.2%
황화수소	H₂S	34.08	고기썩는냄새	-4∼44%	O	10PPM
세렌화수소	H₂Se	80.98	마늘냄새	가연성:12.5-63%	O	0.05 PPM
헬륨	He	4	무취	비가연성
크립톤	Kr	83.8	무취
네온	Ne	20.18	무취
삼불화질소	NF₃	71	자극적 냄새	지연성-15.5-27	O	10PPM
암모니아	NH₃	17.03	무취		O	25	O
일산화질소	NO	30.01	무취	비가연성		25PPM
질소	N₂	28.013	무취
아산화질소	N₂O	44	무취			50PPM
산소	O₂	32	자극적 냄새
삼불화인	PF₃	87.98	자극적 냄새			1PPM
오불화인	PF5	125.97	고기썩는냄새
포스핀	PH₃	34	자극적 냄새	자연발화-1.32∼	O	0.3	×
옥시염화인	POCl₃	153.32

구분	용량(ℓ) Volume	직경×높이(mm)길이 Diameter × Length	중량(kg) (Weight)	재질 (Material)
A	48	250×1,485	42	AL
B	47	232×1,500	57	Steel
C	40	222×1,330	22	SUS
D	10	140×1,100	32	SUS
E	10	140 × 970	15.5	Steel
F	9.4	175 × 720	9.2	AL
G	3.4	140 × 475	5.8	Steel
I	1	76.3 × 465	2.8	Steel
J	0.35	50.8 × 350	1.5	Steel

항목	가스명	비고
산화, 질화막	SiH₄, HCl, NH₃, N₂ O, O₂ 등
이온주입	Ash₃, PH₃, BF₃, BCl, PF5, SiF₄, Ar 등	혼합가스로도 사용
Epitaxial 성장	SiH₄, SiH₂ Cl, SI₂ H6, B,₂ H66 등	결정체 성장(혼합가스)
MO-C.V.D	AsH₃, PH₃, H₂ Se, SiH₄, Si₂H6, H₂S 등	화학, 증착(Chemical Vaper depossition)-혼합가스
Etching	HCl, Cl₂ , BCl₃, CHF₃, CF₄, SF6, NF₃ 등
분위기가스	N₂, O₂, H₂, Ar, He 등

용도분류		종 류
Doping Gas		AsH₃, H₃S, GeH₃, SbH₃, AsCl₃, AsF₃, PH₃, PCl₃, B₃H6, BF₃, (CH₃)2Te, (CH₃)2Cd, (C₃H5)2Cd 등
Epitaxial Gas		SiH₄, SiH₂Cl₂, SiHCl₃, SiCl₄, B₂H6, BBR₃, BCl₃, AsH₃, PH₃, GeH₄, TeH₂(CH₃)3Al, (C₂H5)3Al, (CH₃)3SB, (C₂H5)3Sb, (CH₃)3Ga, (C₂H5)3Ga, (CH₃)3As, (C₂H5)3As, SnCl₄, GeCl₄ 등
이온주입가스		AsF5, PH5, PH₃, BF₃, BCl₃, SF6 등
발광다이오드용가스		AsH₃, PH₃, HCl, ScH₂, (CH₃)2Te, (C₂H5)2Te 등
Etching Gas	기상 Etching	Cl₂, HCl, HF, HBr, SF6 등
	Plazma Etching	SIF₄, CF₄, C₃F8, C₂F6, CHF₃, CClF₃, O₂등
	이온 빔 Etching	C₃F8, CHF₃, CClF₃, CF₄등
	반응성 스퍼터링	O₂등
화학증착용 가스(CVD)		SiH₄, SiH₂Cl₂, SiCl₄, NH₃, NO, O₂등
BALANCE GAS		N₂, Ar, He, H₂, CO₂, N₂O 등

(주)그린산업가스

반도체용가스

용도

반도체용 특수가스의 종류

Silicon Group

Aresenic Group

Phosphorus Group

Boron Group

Hydride Group

Halogen, Halogenide Group

Halogeno - Hydrocabon Group

Nitrogen Oxide Group

E.T.C. Group

Carrier Gases Group

E.T.C.

Balance

주요 반도체용 특수가스의 종류 및 특성

반도체 가스의 용기 종류(Cylinder Description)

반도체용 초고순도가스 특수가스 제조(Ultra High Purity Gases for Semiconductors)

반도체 제조용 가스의 공급 개념

반도체용 제조용 가스의 분류

반도체 제조 용도별 분류

반도체가스 생산공정

반도체 공정별 사용가스

반도체 가스설비 및 설치

반도체 부품(Gas Containment Distribution)

Plant 배관설치

산업 & 자동차 관련 가스 설비

Electro Polishing(EP)

방산연구소